Baño de Cobre Ácido Brillante TB 10

 

Baño de cobre ácido brillante TB 10 El baño de cobre ácido brillante TB 10 es muy económico y muy fácil de trabajar. Sus características son: excelente distribución de metal y poder de penetración, así  como buen brillo y muy buena nivelación. Los aditivos usados en el baño no se descomponen, por lo tanto no se necesitan hacer purificaciones complejas del baño con agua oxigenada y carbón activo.

Baño de Cobre Brillante CUPRUM 10 El baño de cobre brillante CUPRUM 10 es un baño con base de cianuro, de alta velocidad, para la deposición de capas de cobre brillantes, finas, cristalinas y dúctiles. Funciona con un solo abrillantante abrillantante al cual no le afecta el tratamiento con carbón activo.

Baño de cobre SLOTOCOUP CU 50 SLOTOCOUP CU 50 es un proceso para el cobreado de circuitos impresos que ha sido formulado especialmente para utilizar con procesos de metalización directa. SLOTOCOUP CU 50 asegura un rápido recubrimiento de agujeros que, en conjunto con otras características de este electrolito, asegura una excelente distribución del metal. Los depósitos de cobre son de grano fino, con un brillo y una ductilidad moderados. La concentración de los aditivos en el baño puede controlarse mediante análisis, proporcionando así un control estricto del proceso. No se forman productos de descomposición incluso después de largos períodos de trabajo, por lo que no son necesarios tratamientos regulares con carbón activo.

Baño de cobre químico SLOTOCHEM CU 10

 

El baño de cobre químico SLOTOCHEM CU 10 es un proceso químico para la deposición de recubrimientos recubrimientos de cobre (